NVIDIA va implémenter un nœud EUV 7 nm pour ses GPU 2020



NVIDIA will implement the 7 nanometer EUV (extreme ultraviolet) lithography to build its future generation of GPUs slated for 2020, according to Japanese publication MyNavi.jp. The GPU giant could be among the first customers besides IBM, to contract Samsung for 7 nm EUV mass-production of GPUs. IBM will use the Korean semiconductor giant for manufacturing Z-series processors and FPGAs. Samsung announced in October 2018 that it will begin risk-production on its 7 nm EUV node in early-2019.

Un rapport antérieur de 2018 prévoyait également que NVIDIA implémenterait un nœud DUV (ultraviolet profond) de 7 nm de TSMC pour sa gamme de GPU 2019. Avec des nouvelles de la société travaillant maintenant avec Samsung sur EUV 7 nm pour 2020, cela semble moins probable. Il est possible que NVIDIA puisse en quelque sorte diviser sa gamme de GPU de nouvelle génération entre TSMC 7 nm DUV et Samsung 7 nm EUV, ce dernier étant utilisé pour des puces avec un nombre de transistors plus élevé, tirant parti des densités de transistor livrables plus élevées du nœud.


Source: MyNavi.jp